Die Ionenimplantation ist ein Verfahren zur Einbringung von Fremdatomen in ein Grundmaterial, Dotierung genannt. Auf diese Weise lassen sich die Materialeigenschaften des Grundmaterials verändern. Das Verfahren wird unter anderem in der Halbleitertechnik genutzt. Entsprechende Anlagen zur Ionenimplantation werden als Ionenimplanter bezeichnet.